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中国美术馆新展呈现科技艺术新样貌

来源: 中国新闻网   2026/1/20   作者:应妮   地点:北京

“未来诗篇,技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览开幕式16日在中国美术馆举办。该展呈现了科技深度融入艺术创作的最新探索。

本次展览展出了8位当代青年艺术家的创作实践,展品涵盖装置、数字沉浸装置等多种媒介形态,既有从传统山水精神中蜕变而出的数字意境,也有直面人工智能技术的思辨。

艺术家靳军创作的《平直曲面的天水如一》,作品灵感来源于南宋马远的《水图》,画面以现代艺术形式呈现动态水纹状态,传达了独特的自然意境。

三幅高达10米的画卷从展厅上方倾泻而下,其中一幅有烟云缥缈、流瀑奔腾之感。艺术家赵梓君的影像装置作品《墨山》,借助数字艺术手法,传达古典水墨山水的气韵。丰富的视听渲染效果,令人恍如身临其境。

此次展览由中国美术馆策划并主办。策展人柳淳风、李暨涵表示,这不仅是一场“技术+艺术”的创新成果展示,更是一场关于未来艺术可能性的学术探讨。参展艺术家们借助科技手段,在建构诗性艺术语言的同时,积极探索中华文明母题的当代表达路径;观众则可以从中感知科技与艺术交融共生的发展趋势,畅想二者协同塑造的未来文化图景。

据悉,展览呈现在中国美术馆一层7号厅,将展出至1月30日。

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